AFM原子力显微镜分析

布鲁克 Dimension ICON6 原子力显微镜支持接触、轻敲、峰值力轻敲等12种模式,满足不同样品检测需求,为半导体晶圆厂、FAB及封装厂提供了多样化的检测手段。

评价

服务内容

电学特性分析:DCUBE-SCM载流子分布、CAFM电流检测、3D NAND界面电荷

表面形貌与缺陷检测:纳米级表面形貌成像、缺陷定位与分析、工艺优化支持

纳米级结构检测:纳米线与纳米管检测、纳米图案化检测、纳米器件性能评估

封装结构检测:半导体材料特性分析、新型材料研究、材料界面特性分析

封装材料特性分析:芯片封装表面检测、封装内部结构检测、封装缺陷检测与分析

服务对象

半导体晶圆厂、FAB 及封装厂

检测标准

ASTM E2530:AFM形貌测量方法

SEMI MF1812:半导体表面粗糙度AFM测试指南

服务背景

随着纳米技术和高分辨率成像解决方案需求的不断增长,原子力显微镜市场正在经历显著增长。2025年,全球市场价值估计达到17.5亿美元,预计到2033年将增长至30.2亿美元,复合年增长率为7.09%‌。市场需求主要来自生命科学、材料科学、半导体等多个领域,在半导体制造过程中,AFM对于检查纳米级特征至关重要。‌

服务价值

研发端价值

新材料筛选与优化:加速新型半导体材料筛选(高k介质层界面优化),提供微观结构数据,助力研发突破,为半导体晶圆厂、FAB及封装厂的新产品开发提供有力支持。

纳米级缺陷定位:CAFM模块10分钟快速成像,精准定位纳米级电学缺陷。提高研发效率,缩短产品上市周期,帮助企业在激烈的市场竞争中占据先机。

生产端价值

在线检测与质量控制:ScanAsyst自动扫描检测晶圆表面污染、机械损伤,实现生产过程中的实时质量监控,保障产品一致性,降低生产成本。

定制化探针适配:定制化探针库,40+种探针适配不同检测场景,提供灵活的检测方案,满足多样化生产需求,提高生产效率。

失效分析价值

纳米级缺陷诊断:高分辨率成像与多模态分析,精准诊断失效原因,为产品改进提供关键数据,降低失效风险,保障产品质量。

案例分享

某半导体晶圆厂,在生产过程中遇到晶圆表面污染问题寻求解决。

广电计量利用Dimension ICON6进行XXnm工艺检测,对该设备的ScanAsyst模式快速检测找到污染源,显著提升了检测精度和效率,及时调整生产工艺并解决问题。

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